PVD蒸鍍原理
PVD可分為三大類：
1.真空蒸著-Vacuum Evaporation，
2.濺射法-Sputtering ，
3.離子鍍著-Ion Plating，
他們共同的特徵是處理均在真空槽內進行。
而離子鍍著最常使用於刀具的被覆。
1.真空蒸著-Vacuum Evaporation
金屬在真空中加熱時會變成氣體而蒸發，真空蒸著就是用這個原理。處理時須在10-5Torr以下的高真空中進行，金屬及各種化合物都可當作被覆物質，其應用例有鏡片、反射鏡、塑膠零件等。但是以金屬表面硬化為目的的用途則佷少。
2.濺射法-Spattering
濺鍍（sputtering）是利用電漿（plasma）對靶材料進行離子轟擊（ion bombardment），而將靶材料表面的原子撞擊出來，這些靶原子以氣體分子型式發射出來，到達欲沉積的基板上，經過附著、吸附、表面遷徙、成核等過程之後，於基板上成長形成薄膜。
濺射應用範圍相當廣，利用其薄膜的機能方面則是以耐磨耗性、耐蝕性、耐熱性及裝飾性為目的，但是因附著性的問題少見於刀具的應用。
3.離子鍍著-Ion Plating
PVD法中其密著性最佳為離子鍍著；濺射法是使加速的正離子衝撞底材，使蒸氣壓低、不易蒸發的物質化成氣體，使基板表面的髒污被移除，得到乾淨的表面，在清潔的基板形成薄膜的話，會顯著改善薄膜性質。以濺射的洗淨效果淨化基板表面，如此混合加熱金屬的真空蒸著法與濺射法，即成離子鍍著。使用於切削刀具被覆處理為離子鍍著。
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